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IC（集成電路）行業專用光學掩膜版

產品概述：可提供多種尺寸和規格的IC行業專用光刻掩模版，提供石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0.13um, 0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工藝節點（node）， 最小圖形制作高達0.5um，制作精度+/-0.03um，同時，公司可提供專業的Pellicle Remount(重貼膜)服務，覆蓋ASML，NIKON，CANNON等主流光刻機類型

光學器件、編碼器等行業專用光學掩膜版

產品概述：可提供多種尺寸和規格的光學器件、編碼器等不同行業光學掩模版，常見基材厚度為2.3mm； 3.0mm；4.8mm；7.8mm；　尺寸大小有：3-12inch 400*400 420*530　420*450　450*550　508*609　620*720　609*711　mm，或可根據客戶的需求進行加工定制

FPC/MEMS(線路版、電子傳感器)行業光學掩模版

產品概述：公司具有專業可靠的圖形設計、處理轉換軟件和經驗豐富的設計團隊，并提供多種產品尺寸規格，常見的產品基材厚度有2.3mm　3.0mm　4.8mm　常規尺寸有： 228.6*228.6　　350*350　457.2*406.4　450*550　508*609等規格，或可按照客戶需求尺寸進行定制

LCD（液晶顯示器）行業專用光學掩模版

產品概述：可提供多種尺寸和規格的LCD、STN、CF行業光學掩模版，常見基材厚度為2.3mm；3.0mm；4.8mm；幾種；　尺寸大小有： 420*530　420*450　450*550　508*609　620*720　，或可根據客戶的需求進行加工定制；最小圖形達2um以上，圖形精度提供+/-0.5um　+/-1um　+/-2um　+/-3um　不同精度規格供客戶選擇

Touch panel(觸摸屏)行業專用光掩膜基版

產品概述：可提供多種尺寸和規格的觸摸屏光學掩模版， 常見基材厚度為2.3mm；3.0mm；4.8mm；7.8mm幾種；　尺寸大小有：420*530　420*450　 450*550　508*609　620*720　609*711　830*1190　850*1200　mm，或可根據客戶的需求進行加工定制；圖形精度提供+/-0.5um　+/-1um　+/-2um　+/-3um　不同精度規格供客戶選擇