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光刻掩模版主要由兩個部分組成，不透光材料與掩模基板。光刻版也被稱作鉻版，就是指在蘇打玻璃或石英玻璃上通過濺射的方式鍍一層鉻層，鉻層就是不透光材料，不同的光刻版，掩模基板材料和不透光材料不同。光刻掩模版是通過光刻制作工藝，將圖案刻制在光掩模基板上，然后制作成光刻掩模版。光刻掩模版的用途主要是圖像復(fù)制，通過透光與不透光，進行電路圖形的復(fù)制。