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掩膜版因?yàn)榉Q光罩，是光刻過程中必不可少的一個(gè)工具，關(guān)于掩膜版的清洗方法多樣，掩膜版廠家所提供的的清洗方法是用飽和的NaOH溶液浸泡5min, 用去離子水沖洗，然后用50%濃硫酸泡5min，用去離子水沖洗，氮?dú)獯蹈伞?/p>

當(dāng)然也有專門的設(shè)備，一般先使用掩膜版清洗液，將掩膜版放入掩膜板清洗機(jī)邊沖洗邊旋轉(zhuǎn)，將污染顆粒沖洗干凈。之后高速旋轉(zhuǎn)甩干。掩膜板清洗機(jī)可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。

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