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光刻工藝對(duì)掩膜版的質(zhì)量要求

【2022-09-23】

光刻是芯片設(shè)計(jì)中的重要技術(shù)。它具體是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的一種技術(shù)。那光刻工藝對(duì)掩膜版的質(zhì)量要求：精度高、反差強(qiáng)、耐磨損、套刻準(zhǔn)。

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