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電極掩膜版一般應用于電子束蒸發、磁控濺射、熱蒸發等設備中，可以用來制作太陽能電池、激光器光電探測器、場效應晶體管等各種器件電極以及各種薄膜材料圖形設計。

電極掩膜版制備工藝一般采用曝光腐蝕工藝，這種方法可以比較好的根據客戶靈活的設計好圖案，制備出符合要求的圖案尺寸標準。