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光刻掩膜版中的抗反射層是怎么樣的？小編來說一說：

在光刻工藝中，光刻膠的下面是要被刻蝕形成圖案的底層薄膜，假設這個底層是反光的，光線很大概率就會從這個膜層反射而且會損害臨近的光刻膠，這個損害對線寬控制將會帶來不好的影響。鑒于這種現象，我們知道抗反射層涂層有著很強的必要性。

底部的抗反射涂層可以分為兩種：郵寄抗反射涂層、無機反射涂層。把這兩者相比較，有機抗反射涂層反而更容易被去除。頂部的抗反射涂層由于不吸收光，通常可以是作為一個透明的薄膜干涉層，通過光線間的相干相消來消除反射。