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光刻版、掩膜版沒有區(qū)別，是同一個(gè)東西，都是光刻掩膜版，又被稱作光罩、MASK、photo mask，常見的材質(zhì)有石英玻璃和蘇打玻璃，是制作芯片過程中，光刻所需的圖形轉(zhuǎn)移工具。

蘇州硅時(shí)代電子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的設(shè)計(jì)、研發(fā)、制作與服務(wù)為一體，強(qiáng)大的生產(chǎn)力可實(shí)現(xiàn)三天交付,客戶提供質(zhì)量更優(yōu),價(jià)格更廉,制版更快的貼心服務(wù)。