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掩膜版就是電路圖形搬移的工具，是芯片生產(chǎn)中機(jī)密所在，如果拿走掩膜版，就能夠獲取芯片上的電路圖案，掩膜版的制作流程也非常嚴(yán)格，需要根據(jù)最終想要光刻出來的圖案，使用光學(xué)衍射理論，以及光刻機(jī)的相關(guān)參數(shù)補(bǔ)償?shù)鹊龋M(jìn)行反向設(shè)計(jì)，從而使最終光刻出來的結(jié)果接近預(yù)期。

光刻膠的作用類似于以前用的膠卷，都起到曝光的作用，但光刻膠是一種液體，需要均勻涂抹。光刻膠需要一定強(qiáng)度的紫外光照射才能夠曝光，不同型號(hào)的光刻膠用于不同光源的光刻機(jī)。光刻膠的主要性能指標(biāo)有分辨率、刻蝕耐性、線邊緣粗糙度等等，光刻膠分辨率越高，才能夠越適合制作生產(chǎn)高端芯片。

光刻膠和掩膜版都是在國產(chǎn)芯片生產(chǎn)的過程中需要不斷攻克的兩個(gè)重要點(diǎn)。