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任正非:光刻機只是工程制造的問題,花時間就能解決
【2021-07-24】

業內人士分析稱,EUV光刻機算得上是有史以來人類所發明的最精密的儀器,不僅重量高達180噸以上,而且光是核心零部件就超過了10萬個,更是集合了多國的高精尖技術才研發出來的。M國曾有位工程師說,他為光刻機調整一個零件就花費了整整10年的時間。EUV光刻機的難度可想而知。

所以全球光刻機領域的佼佼者ASML才說:“就算把圖紙給你們,你們也不可能造出光刻機”。事實真是如此嗎?其實我國早就制造出了90nm的光刻機,28nm的也取得了關鍵突破。我們國家要想制造出EUV光刻機,就需要集齊光刻機所需高精尖技術的全套人才,這個數字是非常龐大的,所以任正非才說:黃刻機只是工程制造問題,花時間就能解決,中國真正缺的是人才。

其實在華為被斷供前,大家都對ASML和臺積電不了解,現在算是知道了什么才是芯片的制高點,而會設計芯片只不過是學會了皮毛而已。所以從華為被打壓后,國內廠商都開始明白,想要在經濟全球化時代脫穎而出,顯然離不開自主研發,還有手握核心技術才能夠走的更遠,才不畏懼別人的“技術封鎖”。

現在讓ASML意想不到的是,國內在光刻機領域真的在發力了,日前中國電子科技傳出好消息,離子注入機取得了重大突破,實行了100%國產化。雖然28nm工藝制程光刻機還沒達到國際一流水平,但也是一個重要的信號,就是國內已經在光刻機領域要自主創新,不再依賴進口。

無疑是讓國內更多廠商看到了希望,不依靠別人照樣能夠自主研發,雖然在7nm、5nm工藝制程上與西方還有很大的差距,但是隨著國內廠商堅持不懈地投入到自主研發,而全球的“芯片慌”更是給我們營造了“彎道超車”的好時機。

 

轉載自騰訊網-云舊時光青池


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