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用以制作掩模版的掩膜基板必須內(nèi)部和兩表面都無缺陷。必須于光刻膠的曝光波長下有高的光學透射率。用來制作掩模版的常見材質有石英玻璃，蘇打玻璃等。石英玻璃：是超低膨脹系數(shù)的玻璃，熱膨脹系數(shù)非常小，石英玻璃同樣在深UV和近深UV區(qū)域內(nèi)有很高的穿透系數(shù)，但是石英玻璃的價格也較為昂貴；蘇打玻璃：熱膨脹系數(shù)較高，需要根據(jù)不同的光刻機及曝光參數(shù)進行特殊的修調(diào)，優(yōu)點是價格低廉，常用于低端光刻版。

蘇州硅時代電子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的設計、研發(fā)、制作與服務為一體，并根據(jù)客戶不同應用場景合理推薦高性價比光刻版，強大的生產(chǎn)力可實現(xiàn)三天交付,客戶提供質量更優(yōu),價格更廉,制版更快的貼心服務。