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IC（集成電路）行業專用光學掩膜版

產品概述：可提供多種尺寸和規格的IC行業專用光刻掩模版，提供石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工藝節點（node），最小圖形制作高達0.5um，制作精度+/-0.03um，同時，公司可提供專業的Pellicle Remount(重貼膜)服務，覆蓋ASML，NIKON，CANNON等主流光刻機類型。