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掩膜版，又稱作光刻版、光罩、光掩膜版，英文名稱PHOTOMASK，材質(zhì)有石英玻璃、蘇打玻璃、菲林版等，通過真空鍍膜形成鉻及鉻的氧化物光遮蔽層，再通過激光或電子束光刻的方法在遮蔽層上形成所需的精密圖案，主要是應用于集成電路(IC)，IC封裝，微機電（MEMS），功率器件與分立器件，平板顯示行業(yè)（FPD），線路板行業(yè)，以及發(fā)光二極管(LED)和精細光學元器件等行業(yè)。

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