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　　在光刻掩膜版使用的過程中，存在不同的損傷可能性，比如光刻掩膜版的鉻層脫落，鉻層表面有擦傷，灰塵及細小顆粒，靜電放電等等。

　　避免光刻掩膜版上的灰塵顆粒，一般采用保護膜，一個非常薄的透光膜來進行光刻掩膜版的表面保護。保護膜的厚度需要達到一定要求，做的非常薄，這樣保證透光性，保護膜的質量也要過關，需要足夠的解釋，能夠清洗不變形不脫落，性能上還要求保護膜在長時間的曝光下能夠不變形。

　　貼膜的光刻掩膜版可以使用去離子水進行清洗，這樣可以使膜上的大多數顆粒被清潔掉。