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光刻掩膜版制作大概分為7個(gè)步驟：

步驟一、在提供的掩膜基板上涂覆一層光刻膠；

步驟二、對(duì)步驟一所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，形成光刻膠圖案；

步驟三、采用物理氣相沉積工藝或其他工藝在所述基板上在光刻膠圖案的直孔內(nèi)沉積一層掩膜材料；

步驟四、去除掩膜基板和光刻膠圖案，得到初始掩膜板；

步驟五、在初始掩膜板的上、下表面分別形成光致刻蝕層圖案；

步驟六、采用化學(xué)刻蝕工藝對(duì)初始掩膜板的下表面及直孔通孔的內(nèi)壁進(jìn)行刻蝕，形成具有斜錐角的曲線形凹槽；

步驟七、去除光致刻蝕層圖案，得到掩膜板。