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掩膜版也被稱作是光刻版，用于光刻過程中，光刻是半導體制造過程中的關鍵接部分，也是流程造價最高的一部分。

比較常見的光掩膜版種類有四種，分別是鉻版、干版，凸版、液體凸版四種，光掩膜版主要的構成部分主要是分為兩類，一個是基板，一個是不透光材料。基板通常都是由石英玻璃制作而成。