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2021-07-28

在制作芯片的過程中,需要經過很多次光刻,可能十幾次光刻,甚至幾十次光刻,每進行一次光刻工藝,就需要一塊 光刻掩膜版 ,掩膜版的質量將會直接影響...

2021-07-24

光掩膜基版 工序是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版,用來承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的重要載體。 在微納(MEMS)加工過程中,光掩模版...

2021-07-24

掩模版 制作的材質常見有石英玻璃,蘇打玻璃等。 石英玻璃:熱膨脹系數非常小,在深UV和近深UV區域都有很高的穿透系數,但是石英玻璃的價格也較為昂貴...

2021-07-24

? 光刻掩膜版 的檢驗是用傳播光檢查制作缺陷,在以前,這項檢查是使用顯微鏡,人工來檢驗完成的,但如今掩膜版越來越復雜,檢驗工作也從人工檢查轉變...
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