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2021-07-24

目前 掩膜版 清洗常用的方法是使用氫氧化鉀溶液進行沖洗,然后再在掩膜版光學檢測設備中進行檢查,檢查結果不合適后再次投入氫氧化鉀溶液進行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版 的制作最重要的設備就是光刻機,光刻機英文名稱Mask Aligner,又名光刻系統、曝光系統等,它采用激光直寫的方式,在光刻掩膜版上面進行圖...

2021-07-24

目前 光刻掩膜版 的等級規格主要以尺寸、精度、以及基板材料為維度進行劃分。 光刻掩膜版 常用的的基板材料有石英玻璃和蘇打玻璃,石英玻璃熱膨脹系數...

2021-07-23

光刻掩膜版 加工最小尺寸? 光刻版加工尺寸有多種,不同行業常用尺寸也不同。 IC(集成電路)行業專用光刻掩膜版,常用石英和蘇打3~14 inch的基材光掩...
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