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2021-11-19

　　光刻就是利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕將光掩膜上的圖形轉移到襯底上，是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟。光...

2021-11-08

　　電子束光刻技術又被稱為電子束曝光，這種工藝是利用電子束，在已經進行過清洗、涂膠的硅片或者其他襯底上直接進行圖形繪制或投影復制圖形的技術，...

2021-10-22

　　光刻掩膜版，也通常稱為掩膜板，它是我們在微納加工技術中常用的光刻工藝中使用的圖形的母版。通常對掩膜版的基本求如下：（1）精度高：圖形...

2021-10-15

　　掩膜版早期是以1:1的比例緊貼在硅晶圓上，通常由各個半導體公司自行設計工具來進行掩膜版曝光，GCA、KS和Kasper等公司也會提供部分相關設備。直...

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