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2021-07-24

光刻掩膜版 制作流程步驟如下： 　　步驟1、提供掩膜基板，在掩膜基板基板上涂覆一層光刻膠； 　　步驟2、對所述光刻膠進行曝光、顯影，形成光刻膠圖...

2021-07-24

用以制作 掩模版 的掩膜基板必須內部和兩表面都無缺陷。必須于光刻膠的曝光波長下有高的光學透射率。用來制作掩模版的常見材質有石英玻璃，蘇打玻璃等...

2021-07-24

光掩膜基版 工序是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，用來承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的重要載體。 在微納(MEMS)加工過程中，光掩模版...

2021-07-24

掩模版 制作的材質常見有石英玻璃，蘇打玻璃等。 石英玻璃：熱膨脹系數非常小，在深UV和近深UV區域都有很高的穿透系數，但是石英玻璃的價格也較為昂貴...
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